Nama Produk: Asid Fosforik
Formula kimia: H₃SDANLDANPAS₄
Nombor CAS: 7664-38-2
DAN Nombor: DAN338
Berat Molekul: 98.00g/mol
Penampilan: Tidak berwarna,yanglus,dan cecair sirap
Bau: Tidak berbau
Keyangrlarutan: Sangat larut dalam air
Gred Tersedia:
Gred makanan
Gred Perindustrian
Gred Pertanian
Gred Farmaseutikal
Pembungkusan: 35kg, 330kg,atau1650kggendang IBC,atau disesuaikan mengikut keperluan
Penyimpanan: Simpan dalam sejuk,kering,dan kawasan pengudaraan,jauh daripada bahan yang tidak serasi seperti bes dan logam yang kuat.
Klasifikasi Bahaya: menghakis
A Nombor: DAN1805
Pernyataan Bahaya: Menyebabkan kulit yangrbakar dan kerosakan mata yang yangruk.
Mengendalikan Nasihat: Gunakan peralatan perlindungan dan kendalikan dengan berhati-hati-kawasan pengudaraan.
Penggunaan Asid Fosforik
Asid fosforik(DAN338)digunakan secara meluas sebagai a bahan tambahan makanan kepada:
Bertindak sebagai seorang asidulan,menyediakan masam,rasa masam dalam minuman ringan seperti cola.
Menstabilkan dan mengawal tahap pH dalam makanan dan minuman yang diproses.
Berkhidmat sebagai a bahan pengawet,membantu memanjangkan jangka hayat.
Membantu dalam pengeluaran keju sebagai agen pengemulsi.
Jadilah sebahagian daripada serbuk penaik sebagai sumber asid untuk ragi.
Digunakan dalam penyediaan fosfat-ubat berasaskan.
Bertindak sebagai agen pengasidan dalam sirap dan larutan.
Membantu dalam menghasilkan produk pergigian seperti ubatgigi dan ubat kumur,menyokong kawalan plak dan perlindungan enamel.
Penyingkiran karat dan rawatan logam sebagai agen pembersih.
Pembuatan baja fosfat seperti MAP(Monoammonium Phosphayang)dan DAP(Diamonium Fosfat).
Digunakan dalam rawatan air untuk mengelakkan pembentukan skala dan kakisan.
Pengeluaran daripada bahan pencuci dan agen pembersih.
Bertindak sebagai bahan mentah dalam pengeluaran baja,membekalkan tumbuhan dengan fosforus untuk pertumbuhan yang sihat.
Digunakan untuk menyesuaikan diri pH tanah dalam beberapa kes,menjadikan nutrien lebih yangrsedia.
Berfungsi sebagai a pengatur pH dalam kosmetik,produk penjagaan kulit,dan formulasi penjagaan rambut.
Digunakan dalam proses etsa untuk pembuatan semikondukkepadar.
Membantu dalam membersih dan menggilap daripada komponen elektronik.
Kembali ke atas